1.设备名称：全自动的离子溅射仪

2. 型号：沈阳科晶/GVC-1000

3. 厂家：沈阳科晶

4.功能：可用于制备各种单金属膜层、多金属膜层、非金属单质及复合膜层，并可根据需要通入相应的反应气体采用反应溅射的方式制备各种化合物膜层

5.技术参数 ：

（1）样品台：样品台与靶材之间可调高度55~60mm，样品最高加热温度500℃；

（2）磁控溅射靶材最高使用温度：80℃；

（3）每次溅射时间：≤120s；

（4）靶材尺寸：铜靶Φ2*3.3mm，金靶Φ2*0.5mm；

（5）真空度：1Pa

联系人：陈老师（ymchen@hnust.edu.cn）